應(yīng)用于先進(jìn)制程的半導(dǎo)體工廠,有效解決散布在存儲(chǔ)環(huán)境(FOUP)內(nèi)的污染物。
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產(chǎn)品功能
在晶圓生產(chǎn)過(guò)程中,等待進(jìn)機(jī)臺(tái)運(yùn)行的時(shí)間里,晶圓被存儲(chǔ)在FOUP內(nèi)部。隨著時(shí)間的推移,晶圓會(huì)釋放出一些對(duì)良率產(chǎn)生影響的危害物。同時(shí),F(xiàn)OUP本身的材質(zhì)和環(huán)境也會(huì)釋放出水分子和其他危害物,進(jìn)一步影響晶圓的良率。
N2 Purge System透過(guò)FOUP的進(jìn)氣口,持續(xù)將氮?dú)鈱?dǎo)入FOUP內(nèi),氣體順著出氣口將FOUP內(nèi)部的分子污染物、水氣、氧氣排出FOUP,進(jìn)而能有效的控制FOUP內(nèi)部環(huán)境,以符合晶圓存儲(chǔ)的標(biāo)準(zhǔn)。
產(chǎn)品特色
薄型設(shè)計(jì),減少影響Fab走道高度
翻蓋設(shè)計(jì),提高人員維護(hù)便利性,降低設(shè)備安裝維修安全風(fēng)險(xiǎn)
無(wú)后臺(tái)命令,預(yù)設(shè)強(qiáng)制填充,避免產(chǎn)品損失
預(yù)置前清潔與定期自動(dòng)噴嘴清潔,避免Particle掉落噴嘴,保持噴嘴潔凈度
產(chǎn)品效益
有效排除FOUP內(nèi)部的污染物
有效的控制FOUP內(nèi)部的氧濃度與濕度
抑制缺陷
提升產(chǎn)品良率
減少重工、提升Cycle time
減少Q-Time Over
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